Tháng 11 9, 2026 Keo phủ bảo vệ ALPHA HiTech UP44-5311F Sấy UV
Keo phủ bảo vệ ALPHA HiTech UP44-5311F là hệ keo phủ đóng rắn bằng tia UV 1 thành phần, được thiết kế nhằm nâng cao độ bám dính của mối hàn thông qua việc bao phủ trực tiếp lên bề mặt chip và các linh kiện điện tử. Được phát triển bởi tập đoàn MacDermid Alpha, loại vật liệu này ngăn ngừa hiệu quả hiện tượng nứt gãy hoặc rơi rớt các thiết bị vi mạch IC khi chịu tác động cơ học. Doanh nghiệp sản xuất điện tử ưu tiên chọn keo phủ bảo vệ ALPHA HiTech UP44-5311F nhờ khả năng sấy nhanh, kháng ẩm vượt trội và quy trình kiểm tra chất lượng thuận tiện.
Đặc Tính Nổi Bật Của Keo Phủ Bảo Vệ ALPHA HiTech UP44-5311F
Sản phẩm sở hữu nhiều ưu điểm kỹ thuật vượt trội giúp gia tăng độ bền bo mạch và tối ưu hóa tốc độ vận hành dây chuyền SMT:
- Tốc độ đóng rắn UV cực nhanh: Đóng rắn hoàn toàn chỉ trong vài giây dưới ánh sáng UV, cắt giảm tối đa thời gian chờ trên dây chuyền.
- Hiệu ứng phát quang kiểm tra chất lượng: Phát ra ánh sáng xanh dạ quang khi chiếu đèn tia cực tím (black light), giúp kiểm tra độ bao phủ của keo bằng mắt thường cực kỳ dễ dàng.
- Khả năng kháng ẩm tuyệt vời: Bảo vệ các vi mạch IC và điểm liên kết hàn khỏi tác động của độ ẩm và môi trường khắc nghiệt.
- Gia cố cơ học vững chắc: Tăng cường khả năng chịu lực, ngăn ngừa hiện tượng bong tróc và nứt chân chip khi va đập.
- Tiêu chuẩn Halogen-free: An toàn cho môi trường, đáp ứng hoàn toàn yêu cầu của Chỉ thị RoHS Directive 2011/65/EU.
Hướng Dẫn Vận Hành Và Quy Trình Sấy UV
Quy trình tra keo phủ bảo vệ ALPHA HiTech UP44-5311F được thực hiện hiệu quả ở điều kiện nhiệt độ phòng tiêu chuẩn. Do sản phẩm rất nhạy cảm với ánh sáng, cần hạn chế tối đa việc tiếp xúc với ánh sáng mặt trời, ánh sáng UV và đèn chiếu sáng nhân tạo. Xi-lanh keo bảo quản ở 1 đến 10 °C (đặt thẳng đứng, đầu tip hướng xuống) cần được rã đông ở nhiệt độ phòng trong 2 giờ trước khi mở nắp. Keo đã rã đông không được đổ ngược lại xi-lanh ban đầu. Vật liệu đạt đầy đủ đặc tính cơ lý khi sấy dưới đèn Metal Halide với cường độ 300 mW/cm² (bước sóng 365 nm) trong thời gian tối thiểu 10 giây.
Bảng Thông Số Kỹ Thuật
| Thông Số / Quy Trình | Chi Tiết Kỹ Thuật |
|---|---|
| Phân Loại Hóa Chất & Ngoại Quan | Hệ keo phủ đóng rắn UV 1 thành phần (Phát quang xanh dưới đèn UV) |
| Điều Kiện Bảo Quản | 1 đến 10 °C (Đặt đứng, đầu tip hướng xuống, tránh ánh sáng) |
| Thời Gian Rã Đông | 2 giờ ở nhiệt độ phòng (Không mở nắp trước khi rã đông) |
| Điều Kiện Tra Keo | Nhiệt độ phòng tiêu chuẩn |
| Thông Số Sấy Đóng Rắn UV | Đèn Metal Halide @ 300 mW/cm², 365 nm duy trì tối thiểu 10 giây |
| Tiêu Chuẩn Môi Trường | Halogen-free, Tuân thủ RoHS Directive 2011/65/EU |
Kết Luận
Tóm lại, keo phủ bảo vệ ALPHA HiTech UP44-5311F mang đến giải pháp gia cố và bảo vệ chip IC hiệu quả cao nhờ tốc độ đóng rắn UV vượt trội và tính năng kiểm tra dạ quang tiện lợi. Quý khách hàng cần tư vấn kỹ thuật hoặc nhận báo giá thương mại, xin vui lòng liên hệ qua Contact – LORIOT INDUSTRIAL.
