Tháng 8 26, 2026 Keo tản nhiệt Kester SF800-LR
Keo tản nhiệt Kester SF800-LR (Dung dịch trợ hàn lỏng gốc hữu cơ) sở hữu tỷ lệ chất rắn thấp, không chứa halogen và để lại rất ít cặn dư, được thiết kế chuyên biệt cho công đoạn hàn nối tab (tabbing) và hàn chuỗi (stringing) trong sản xuất pin mặt trời. Được chế tạo bởi thương hiệu Kester, vật liệu này mang lại khả năng hàn vượt trội cho các quy trình lắp ráp module sử dụng phương pháp gia nhiệt dẫn nhiệt, hồng ngoại (IR) và đối lưu.
Ưu điểm kỹ thuật và Đột phá hiệu suất
Keo tản nhiệt Kester SF800-LR được thiết kế tối ưu hóa nhằm gia tăng tốc độ dây chuyền và đảm bảo tuổi thọ mối hàn quang điện:
- Tối thiểu hóa cặn thừa: Loại bỏ hoàn toàn công đoạn tẩy rửa sau khi hàn, giúp các cell pin khô ráo và đạt độ sạch thẩm mỹ hoàn hảo ngay khi ra khỏi máy hàn stringer.
- Công thức Zero-Halogen: Thành phần gốc hữu cơ hàm lượng chất rắn thấp không chứa halogen, ngăn ngừa nguy cơ ăn mòn hóa học.
- Tương thích bề mặt kim loại hóa: Mang lại khả năng dính ướt và hỗ trợ hàn xuất sắc trên mọi loại lớp kim loại hóa bề mặt cell pin.
- Lực bóc tách (Peel Force) cao: Đảm bảo liên kết cơ học chắc chắn và duy trì độ bền vững lâu dài cho các mối hàn.
- Thích ứng đa dạng công nghệ: Hoạt động ổn định trên cả hệ thống gia nhiệt dẫn nhiệt, lò đối lưu và đèn hồng ngoại IR.
Bảng thông số kỹ thuật sản phẩm
| Thông số kỹ thuật | Chi tiết sản phẩm |
|---|---|
| Tên sản phẩm | Keo tản nhiệt Kester SF800-LR (Dung dịch trợ hàn) |
| Thành phần hóa học | Gốc hữu cơ, Zero-Halogen, Chất rắn thấp, Ít cặn |
| Ứng dụng trọng tâm | Hàn nối tab và hàn chuỗi cell pin mặt trời (PV) |
| Phương pháp gia nhiệt | Dẫn nhiệt (Conduction), Hồng ngoại (IR), Đối lưu (Convection) |
| Yêu cầu làm sạch | Không cần làm sạch (No-Clean) |
| Trạng thái bề mặt sau hàn | Khô ráo, sạch sẽ, thẩm mỹ cao |
Kết luận
Sử dụng keo tản nhiệt Kester SF800-LR đảm bảo liên kết hàn cell pin chắc chắn, tối ưu hóa năng suất và duy trì độ sạch tuyệt đối cho thành phẩm. Vui lòng gửi yêu cầu báo giá và tư vấn chuyên sâu tại Contact – LORIOT INDUSTRIAL.
